Studio di un reattore LPCVD (low pressure chemical vapor depostion)
Problema incontrato
depositi di solido, fuori dei sostrati, trascinando dei costi di manutenzione ed una diminuzione di produttività (contaminazione da particelle solide).
Obiettivo
Aumentare la produttività, ridurre i costi di manutenzione.
Metodo
- Definire gli obiettivi col nostro cliente, fornitore di soluzioni di pompaggio
- Determinare il tipo di studi e le loro precisioni in funzione degli obiettivi
- Realizzare questi studi a partire dai modelli fisici e geometrici i più adattati.
Studi realizzati
- Simulazione 3D dell'insieme dell'attrezzatura in fasi di : pompaggio, deposito, riempimento,
- Quantificazione dei depositi che causano contaminazione, poi studio della dinamica delle fasi di discesa in vuoto (pompaggio) e di risalita in pressione del forno (cfr. contaminazione)
- La reattività è rappresentata da un modello cinetico semplificato, proveniente da un studio bibliografico, e adattato alle condizioni del forno simulato.
- L'insieme dell’approccio è validato con il confronto ai dati osservati dal cliente.
- I risultati permettono una validazione dei concetti proposti dal nostro cliente, poi un'ottimizzazione.
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Velocità di deposito sui sostrati e pareti. Zona rossa : potenzialità di contaminazione rapida dai depositi |
